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ASML研究人员开发方法,2030年芯片产量或提升50%

芯片制造技术的进步集中在提升光源功率,预计将大幅提高生产能力。这一发展响应了客户的实际需求,可能对半导体行业产生重大影响。
2026年2月23日
关键指标

13.4

热度指数
  • 影响级别
    Medium
  • 影响范围
    Global
  • 最后更新
    2026-02-23
关键影响
积极影响 (11)
台湾半导体制造公司
费城半导体指数(SOX)
ASML控股公司
半导体设备部门(应用材料、KLA、Lam Research等)
光致抗蚀剂和光刻化学品供应商(JSR、富士胶片、陶氏)
特种气体——氖气、氢气、一氧化碳₂
消极影响 (1)
传统DUV光刻设备市场
总影响数: 12 | 积极: 11 | 消极: 1
事件概述

芯片制造技术的进步集中在提升光源功率,预计将大幅提高生产能力。这一发展响应了客户的实际需求,可能对半导体行业产生重大影响。

采集记录
ASML研究人员开发方法,2030年前提升芯片产量50%
2026-02-23 22:10

ASML的研究人员开发了一种方法,大幅提升关键芯片制造设备的光源功率,预计到2030年芯片产量可提升高达50%。ASML极紫外光源首席技术官Michael Purvis表示,该系统能持续输出1000瓦功率,满足所有实际客户需求。

总记录数: 1
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