關鍵指標
13.4
熱度指數-
影響級別Medium
-
影響範圍Global
-
最後更新2026-02-23
關鍵影響
積極影響 (11)
臺灣電晶體製造公司
費城電晶體指數（SOX）
ASML控股公司
電晶體設備部門（應用資料、KLA、Lam Research等）
光致抗蝕劑和光刻化學品供應商（JSR、富士膠片、陶氏）
特種氣體——氖氣、氫氣、一氧化碳 ₂
消極影響 (1)
傳統DUV光刻設備市場
總影響數: 12 |
積極: 11 |
消極: 1
事件概述
晶片製造技術的進步集中在提升光源功率，預計將大幅提高生產能力。此一發展回應了客戶的實際需求，可能對半導體產業產生重大影響。
採集記錄
ASML研究人員開發方法，2030年前提升晶片產量50%
2026-02-23 22:10
ASML的研究人員開發出一種方法，大幅提升關鍵晶片製造機器的光源功率，預計到2030年晶片產量可提升高達50%。ASML極紫外光源首席技術官Michael Purvis表示，該系統能持續輸出1000瓦功率，滿足所有實際客戶需求。
總記錄數: 1