關鍵指標
10.7
熱度指數-
影響級別Medium
-
影響範圍National
-
最後更新2025-09-03
關鍵影響
積極影響 (6)
高頻寬記憶體（HBM）市場
電晶體設備行業
卡尔蔡司SMT
光致抗蝕劑和光刻化學品
氖氣
人工智慧晶片設計師（如NVIDIA）
消極影響 (2)
美光科技股份有限公司。
ASML控股有限公司。
總影響數: 8 |
積極: 6 |
消極: 2
事件概述
半導體製造技術的進步反映出產業內對更高精度與整合度的激烈競爭。新型高數值孔徑光刻設備的引入象徵著創新驅動的差異化，加劇了技術競賽。此類發展常帶動供應鏈動態變化，可能重塑市場領導格局，並促使整個產業加大投資以因應日益演進的生產能力。
採集記錄
SK海力士推出業界首款量產高數值孔徑EUV設備
2025-09-03 19:27
SK海力士宣布，於南韓利川的M16工廠推出業界首款量產高數值孔徑極紫外光刻機（High NA EUV）。相較於現有NA 0.33的EUV設備，新機光學性能提升40%，電路圖案的精度提高1.7倍，整合效能提升近3倍。
總記錄數: 1